本技术涉及真空炉技术领域,特别是一种高效均匀排焦且易于清洁的真空烧结炉。该炉包括炉体,其炉门配备氮气加热分流箱,实现氮气均匀加热并排入炉内。炉体内侧依次配置碳毡、石墨板和加热体组,加热体组通过接电装置与外部电源连接,该装置可调整加热体组位置以适应氮气充入量。炉体中部设有排焦装置,焦气通过排焦管道的密封装置和止逆阀排出,有效解决氮气分布不均、冷冲击和排焦效率低等问题。
背景技术
真空炉因工作环境无氧化,温度均匀可控性高的特点,在金属热处理、陶瓷烧结、钎焊等领域应用广泛。
在真空炉内烧结碳化硅工件过程中因化学反应会产生大量焦气,加热过程中在炉门须冲入大量保护性气体氮气对挥发的气态焦质迅速清理。现有真空炉存在冲入氮气在炉腔内分布不均匀和冲入常温氮气对炉门处局部工件存在冷冲击、排焦不彻底且效率低、维护困难等问题,严重影响产品的质量和生产效率。因此,急需设计一种新型真空烧结炉,以提高排焦效率、工件烧结质量以及炉体结构的密封性、普适性和可调性,降低维护成本,满足现代化生产要求。
实现思路