本技术介绍了一种专用于金属铍熔炼和纯化的坩埚,该坩埚以金属氧化物陶瓷为基体,并在内壁涂覆氧化铍层。制备过程涉及使用两个规格相同的金属氧化物陶瓷坩埚作为基础,通过特定工艺形成氧化铍层,以提高熔炼和纯化效率。
背景技术
金属铍有密度小、比刚度、比热容、热导率大和耐腐蚀等优秀的物理化学性质及优秀的核性能,被应用于包括制备卫星框架部分和结构、卫星镜体、火箭喷嘴、陀螺仪和导航及武器控制组件、电子封装、数据通信系统高功率激光器的镜体、核裂变和聚变反应堆等领域。
目前涉及金属铍熔炼领域,如金属铍的熔铸、金属铍的真空蒸馏除杂等,能够选用的最优坩埚均为氧化铍坩埚,由于金属铍十分活泼,会与石墨、氧化镁、氧化铝、氧化锆等多种坩埚材料发生化学反应,因此,常规的氧化铍坩埚不适合金属铍的熔炼或纯化。而氧化铍坩埚的高稳定性特别适合于熔制纯度要求高的金属,如:Be、Zr、Ti等,也是熔制高纯度金属铀最好的坩埚材料。然而,氧化铍坩埚价格昂贵,是常见坩埚(MgO、Al2
O3
、石墨等坩埚)价格的数百倍;另一个方面,氧化铍坩埚在制备时,需要先制备粒径2-3μm的陶瓷料,再经过成型、烧结工序得到氧化铍陶瓷,而在该工艺流程中,氧化铍粉末的毒性会对生产设备和条件有较高的要求。
因此,需要开发一种低成本的用于金属铍熔炼或纯化的坩埚,以满足高纯铍制备和高性能金属铍熔铸的需要。
实现思路