本实用新型专利专注于太阳能电池片的PVD镀膜技术,特别提出一种新型磁棒装置。该装置致力于解决磁控溅射过程中靶材因磁场不均导致的消耗问题,进而优化镀膜均匀性,减少太阳能电池片的不良率。
背景技术
磁控溅射过程中,通过磁棒内部磁铁的磁场方向来完成太阳能电池片的磁控溅射,由于磁铁的磁场方向固定且其磁场分布不均,会导致磁场中靶材的不同位置的消耗速度不同,溅射在太阳能电池片上面的靶材就会不均匀,进而导致太阳能电池片的不良增加。
实现思路