本技术介绍了一种双层核壳型PS/TiO2/CeO2纳米复合磨料的制备方法,该方法具有创新性,能够生产出性能优异的纳米磨料材料。
背景技术
磷酸二氢钾(KDP)晶体作为一种性能优异的非线性光学晶体,被广泛应用于惯性约束核聚变装置、高功率激光武器、可调谐声光滤波器、电光开关等领域,因其具有软且脆、易潮解、各向异性等特性,容易造成塌边、小波纹度等损伤,是目前最难加工的材料之一。其表面质量对其光学性能有很大影响,而抛光方式和磨料种类会直接影响抛光表面质量。
化学机械抛光(CMP)技术是通过抛光液中化学试剂的化学腐蚀和机械磨削的双重耦合作用,获得全局平坦化表面的抛光工艺,是目前超精密加工领域应用较多的一种技术。
磨料是抛光液的重要组成部分,磨料自身的材质、形貌、粒径、粒度分布等性质是决定抛光效果的主要因素。由于KDP晶体对抛光质量要求较高,现有的单一磨料性能无法满足使用要求。
实现思路