光刻曝光补偿模型构建及仿真技术
2025-02-11 21:43
No.1338988786616639488
技术概要
PDF全文
本技术涉及一种用于光刻曝光的补偿模型构建方法、仿真方法、相关装置及设备。该方法包括基于芯片图案样本确定测试掩膜图案的透射参数,并采集测试数据以优化光刻过程。
背景技术
计算光刻是采用计算机模拟、仿真光刻工艺的光化学反应和物理过程,实现对光刻曝光图像的仿真,利用仿真曝光图像辅助芯片设计、分析、预测及修正,以提升芯片研制周期和加工良率。在实际光刻曝光过程中,高端芯片图案节点/尺寸远小于曝光光线的波长,进而会在光掩模图案边缘产生绕射效应;由此在计算光刻中就需要对曝光过程中的边缘绕射效应进行相应地补偿,从而保证对曝光过程模拟仿真的准确性,避免仿真曝光图像失真。 通过在掩膜图案边缘添加拟合函数或查找表的方式进行频谱补偿是实现计算光刻补偿的有效技术手段之一;但随着高端芯片关键尺寸的减小和复杂程度的提升,掩模板上不同图案间的耦合信息对曝光图像的影响逐渐增大,耦合效应的高次效应不可忽略,由此在对确定计算光刻过程中的补偿信号时,基于物理偏微分方程的数值模拟过程存在难以收敛的问题,拟合函数存在不易构造的问题,而查找表则存在难以创建的问题;由此如何计算光刻过程中的补偿信号,是业内急需解决的重要问题之一。
实现思路
阅读余下40%
技术概要为部分技术内容,查看PDF获取完整资料
该技术已申请专利,如用于商业用途,请联系技术所有人!
技术研发人员:
请求不公布姓名  请求不公布姓名
技术所属: 华芯程(杭州)科技有限公司
相关技术
掩膜版存储库以及光刻曝光设备 掩膜版存储库以及光刻曝光设备
咔啉并六氢吡嗪-1,4-二酮-3-乙酰-Val-Val,及其制备和应用 咔啉并六氢吡嗪-1,4-二酮-3-乙酰-Val-Val,及其制备和应用
掩膜制造方法、装置、存储介质及电子设备 掩膜制造方法、装置、存储介质及电子设备
一种具有DPP-IV抑制作用的蜂王浆活性肽组合物及其制备方法和应用 一种具有DPP-IV抑制作用的蜂王浆活性肽组合物及其制备方法和应用
一种pH及消化酶双响应的杀白蚁微胶囊、制备方法及应用 一种pH及消化酶双响应的杀白蚁微胶囊、制备方法及应用
乙烯利和几丁质在增强小麦赤霉病抗性中的应用 乙烯利和几丁质在增强小麦赤霉病抗性中的应用
补偿模型创建方法、光刻曝光仿真方法、装置及设备 补偿模型创建方法、光刻曝光仿真方法、装置及设备
一种含石墨炔中间层的聚酰胺复合纳滤膜的制备方法及其应用 一种含石墨炔中间层的聚酰胺复合纳滤膜的制备方法及其应用
一种高柔性MOF复合膜及其制备方法和应用 一种高柔性MOF复合膜及其制备方法和应用
碳负载金属锌催化剂及其制备方法与应用 碳负载金属锌催化剂及其制备方法与应用
技术分类
电信、广播电视和卫星传输服务 电信、广播电视和卫星传输服务
互联网软件服务 互联网软件服务
集成电路设计 集成电路设计
信息集成数字服务 信息集成数字服务
电气机械制造 电气机械制造
计算机、通信、电子设备制造 计算机、通信、电子设备制造
医药制造、生物基材料 医药制造、生物基材料
石油煤矿化学用品加工 石油煤矿化学用品加工
化学原料制品加工 化学原料制品加工
非金属矿物加工 非金属矿物加工
金属制品加工 金属制品加工
专用设备制造 专用设备制造
通用设备制造 通用设备制造
通用零部件制造 通用零部件制造
汽车制造业 汽车制造业
铁路、船舶、航天设备制造 铁路、船舶、航天设备制造
电力、热力生产和供应 电力、热力生产和供应
燃气生产和供应 燃气生产和供应
水生产和供应 水生产和供应
房屋建筑、土木工程 房屋建筑、土木工程
交通运输、仓储和邮政 交通运输、仓储和邮政
农、林、牧、渔业 农、林、牧、渔业
采矿业 采矿业
农副、食品加工 农副、食品加工
烟草、酒水加工 烟草、酒水加工
纺织皮具居家制品 纺织皮具居家制品
文教体娱加工 文教体娱加工
苏ICP备18062519号-5 © 2018-2025 【123技术园】 版权所有,并保留所有权利