SRAF图案生成技术、设备、存储解决方案及电子装置
2025-02-12 09:25
No.1339165559274872832
技术概要
PDF全文
本技术涉及一种SRAF图案生成技术、设备、存储解决方案及电子装置。该技术包括获取实际版图尺寸特征的分布数据,并依据这些数据,遵循预定的提取规则,生成SRAF图案。
背景技术
随着版图图形尺寸的逐步缩小,在集成电路制造过程中,对光刻分辨率的要求也越来越高。 为了获得更高的光刻分辨率,需要对版图的目标图形进行修正,同时在目标图形周围添加亚分辨率散射条(Sub Resolution Assist Feature,SRAF),以在曝光的过程中,使得与目标图形中排布较稀疏的部分对应的光刻胶接收到的光照强度,基本等于与目标图形中排布较密集的部分对应的光刻胶接收到的光照强度。 传统的SRAF放置方法是在实际芯片光刻工艺流程前,先制作一个测试版图,然后在测试版图上放置不同规则的SRAF。然而,测试版图的设计不一定包括实际版图的所有尺寸特征,导致生成的SRAF图形不准确。并且SRAF的放置规则比较依赖于工程师的经验,需要较长的测试周期,导致SRAF图形的生成效率较低。
实现思路
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该技术已申请专利,如用于商业用途,请联系技术所有人!
技术研发人员:
吴志强洪鼎易孙鹏飞
技术所属: 华芯程(杭州)科技有限公司.
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