先进掩膜技术:制造方法、设备、存储解决方案与电子应用
2025-02-12 11:46
No.1339201126339452928
技术概要
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本技术涉及一种创新的掩膜制造技术,包括一套方法、装置、存储介质和电子设备。该技术通过精确确定初始版图的关键测量点,并收集这些点的蚀刻偏差值与初始特征数据,进而实现掩膜制造过程的优化。
背景技术
在半导体制造中,掩膜制造是实现微细电路图形的关键步骤。掩膜作为光刻工艺的核心组件,其质量直接影响到最终产品的性能和良率。 随着集成电路的不断缩小和功能集成度的提高,掩膜制造过程中出现的蚀刻偏差问题变得愈发突出。这些偏差不仅可能导致电路图形失真,还可能引起电气性能的下降,从而影响整个芯片的可靠性。
实现思路
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该技术已申请专利,如用于商业用途,请联系技术所有人!
技术研发人员:
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技术所属: 华芯程(杭州)科技有限公司.
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