光刻技术革新:高效掩膜版存储与曝光装置
2025-02-12 13:21
No.1339224830159101952
技术概要
PDF全文
本技术方案聚焦于光刻设备领域,详细介绍了一种创新的掩膜版存储库和光刻曝光设备。该设备配备多个掩膜盒,每个掩膜盒均设有专门的掩膜版取放口,且该取放口被特别设计的盖子覆盖,与掩膜盒侧边相连,确保了掩膜版的安全存储和便捷取用。
背景技术
掩膜版作为精密原件,其对颗粒或污染物均十分敏感,因此掩膜版在存储时均放置在专门的掩膜盒中,只有在曝光工艺时,才将其从掩膜盒取出并放置到掩膜台上进行曝光。现有技术开盖结构效率较低,且封挡盖板的打开角度较小或开盖角度大小不一,难以保证封挡盖板的完全打开导致抓取机构无法快速抓取,因此导致曝光工艺的生产效率较低。
实现思路
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该技术已申请专利,如用于商业用途,请联系技术所有人!
技术研发人员:
张琪符友银芦志明
技术所属: 芯传科半导体科技(江苏)有限公司 新毅东(北京)科技有限公司.
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