本技术属于半导体制造设备技术领域,公开了一种DPP型极紫外光源碎屑综合过滤装置及其方法,本发明提供的DPP型极紫外光源碎屑综合过滤装置包括:碎屑引入部、真空差分部、气体吹扫部、箔阱过滤部、原子氢部、延迟场离子能量分析仪部、石英晶体微天平部、控制和监测系统。本发明的装置通过多种清除机制(真空差分、气体吹扫、箔阱过滤、原子氢反应)相结合,并引入高精度的监测系统(离子能量分析仪、石英晶体微天平),能够有效过滤和缓解不同类型、不同粒径的碎屑污染。同时,实时的在线监测系统可以根据监测结果及时调节各清除机制的工作状态,实现高效、精准的碎屑清除,延长光刻系统组件的使用寿命,提升光刻效率。
背景技术
对DPP(Discharge Produced Plasma,放电产生等离子体)型极紫外光源产生的碎屑进行过滤和缓解的装置,在极紫外光刻技术中,DPP型极紫外光源是产生极紫外光的关键组件。然而,这种光源在产生极紫外光的过程中,往往会产生大量的碎屑,这些碎屑可能会损坏光刻机的光学收集系统,从而影响光刻的精度和效率。DPP型极紫外光源在工作过程中会产生大量碎屑,这些碎屑会对光刻系统的光学组件造成损害,降低光刻系统的工作效率和精度。现有技术中,碎屑清除机制往往针对某一类碎屑,且效率较低。传统的碎屑清除系统缺乏有效的监控手段,无法对清除效果进行实时评估。由于碎屑堆积导致的设备损坏是光刻系统维护频繁的主要原因。
通过上述分析,现有技术存在的问题及缺陷为:
(1)DPP型极紫外光源碎屑污染问题:DPP型极紫外光源在工作过程中会产生大量碎屑,这些碎屑会对光刻系统的光学组件造成损害,降低光刻系统的工作效率和精度。
(2)碎屑清除效率低下的问题:现有技术中,碎屑清除机制往往针对某一类碎屑,且效率较低。
(3)碎屑清除效果监控不足的问题:传统的碎屑清除系统缺乏有效的监控手段,无法对清除效果进行实时评估。
(4)系统维护频繁的问题:由于碎屑堆积导致的设备损坏是光刻系统维护频繁的主要原因。
实现思路